당초 인간의 미적추구의 본능으로부터 유래한 최초의 표면처리기술은 지금으로부터 5000년 전 (B.C.3000)의 청동기 제품을 사용하면서 황금색의 금을 입히는 방법으로 수은 아말감법이 이용된 것으로, Leyden Papus 기록에서 찾을 수 있다. 이 기술은 우리의 옛 부장품이나 금불상에서 황금색상을 얻기 위하여 사용된 기술로 3000년 전에 중국, 한국을 거쳐 일본에 전파된 것이라고 일본의 자료는 밝히고 있다.
이와 같은 전근대식 표면처리법은 전기가 나오면서 새로운 혁신적 발전을 하게 되었으며, 1836년 독일의 Jacobi에 의하여 전기도금 방식이 개발되어 현대적 표면처리기술의 니켈, 금, 크롬, 주석의 전기도금이 시작되었고, 현대문명의 상품인 자동차, 가전제품, 주방용품, 사무용품에 이르기까지 우리의 생활 상품의 속 곳곳에 활용되게 되었다. 이때까지 주로 제품들이 금속으로 된 까닭에 금속 위에 표면처리를 한다고 하여 금속표면처리라는 명칭을 사용하기도 하였으나, 그 후 1963년부터 나타난 IT산업의 총아인 반도체 IC상품은 첨단의 표면처리기술인 물리증착법(PVD)와 화학증착법(CVD)을 기반으로 태어나게 되었으며 이들의 응용 표면은 금속은 물론 비금속제품인 세라믹 및 고분자로 확대되면서 금속이란 접두어 없이 다시 표면처리기술로 환원되어 사용하게 되었다.
물과 같은 수용액을 매체로 한 전기도금 방식의 표면처리기술에서 기체를 매체로 한 기상증착기술인 물리증착법(PVD)와 화학증착법(CVD)의 첨단 표면처리기술로의 혁신은 20세기 후반에 반도체 상품을 탄생시켰으나, 이들 기술들은 19세기 후반에 이미 준비된 개발 기술들에 원천을 두고 있다. 즉, 진공증착은 1857년 Farady가, 스파터(sputtering)기술은 1852년 Grove가 개발하였으며 이들 또한 진공기술의 기반으로 이루어 진 것을 보면서 기반기술의 중요성을 새삼 느끼게 된다.
한편 전기도금과 같이 수용액을 사용하나 전기화학 반응 대신 화학적인 촉매반응을 이용한 무전해 도금 방식이 1844년 Wurtz에 의하여 개발되었다. 산업적으로 니켈 무전해 도금이 실질적으로 활용된 것은 전자산업의 발달로 플라스틱의 금속화라는 시대적 요구가 생겨난 1960년대 부터 활발히 사용되었다. 반도체와 더불어 화인세라믹의 활용에 뒤따른 주요표면 금속화 공정의 표면처리기술로 각광을 받고 있다. 즉, 겉만 보아서는 속내용물이 금속, 세라믹, 플라스틱의 구별이 안 되도록 할 수 있는 기술이기도 하다.
1964년 미국의 NASA는 우주에서 윤활유가 없이 사용가능한 베어링 개발에 참여한 Mattox로 하여금 새로운 도금법인 이온도금기술을 개발하게 하여 새로운 표면처리기술 영역을 개척케 하였다. 특히 TiN코팅은 금빛을 내면서도 내마모성이 우수하여 기존 금도금 대체기술로나, 공구의 수명 향상 표면처리 기술로 각광을 받고 있다.
이외에도 항공과 우주산업과 함께 에너지산업에 중요한 위치를 차지하고 있는 표면처리기술인 용사법은 1908년 M.U.Schoop에 의하여 개발되었으며 용융점이 높은 세라믹 등을 입힐 수 있는 프라즈마(plasma)의 새로운 에너지원이 응용되는 상태로 발전하였다. 특히 가스터빈 발전기의 발전효율은 이와 같은 새로운 표면처리기술의 개발 활용으로 획기적인 증대를 이룬 것으로 알려졌다.
전반적인 표면처리기술의 발달사를 앞에서 살펴본데 이어 우리나라의 표면처리기술의 발달사를 뒤돌아보면 많은 비교가 될 것이다. 앞서 언급한 바 와같이 수은 아말감법에 의한 금속장신구나 불상이 사용된 것은 삼국시대의 고분발굴조사에 기록되어 있으며, 다시 일본에 전수된 사실이 일본에 의하여 기록으로 남겨져 있어 이 기술이 우리나라 최초의 표면처리기술이라고 할 수 있겠다. 또한 조선과학사에 9세기경 도금(鍍金)이라는 말이 나오는 사실로부터 표면처리기술의 금속세공을 추측해 볼 수 있다.
우리나라는 20세기 초에 불행히도 서양의 문물과 직접적인 교류가 불가능하였고 특히 일제 통치하에서 우리의 공업은 암흑기를 겪게 되었다. 그러나 당시 일제의 병참기지로 필요한 표면처리업체가 해방 전까지 11개 이상이 있었던 것으로 조선통독부 통계연감은 기록하고 있다. 1950년 한국동란 이전까지 9개의 업체가 니켈도금과 장식크롬도금을 하여 명맥을 이어왔다. 1960년대 들어 정부의 공업화 정책과 더불어 경공업제품의 국산화에 필요한 표면처리기술인 전기도금 특히 플라스틱의 금속화 도금이 기술도입 방식으로 일본을 중심으로 도입·활용되면서 전자제품의 플라스틱도금-표면처리기술의 개화기를 열었다.
70년대의 중화학 공업시대에는 자동차나 선박 부품 등의 고기능 표면처리기술이 요구되면서 경질크롬도금-표면처리기술의 국산화개발시대를 열어 표면처리기술의 성숙기를 맞게 되었다. 70년대부터 시작된 프라즈마 용사기술은 80년대 이후 섬유기계산업과 철강산업분야에 수요가 급격히 증대하는 경향을 보였다. 80년대 국내의 반도체 개발과 관련하여 PVD와 CVD 중심으로 한 표면처리기술의 첨단화 시대로 발전의 도약과 기능성 귀금속·무전해 도금기술의 새장을 열어 국제적인 경쟁력을 강화하여 IT강국의 기틀을 마련하였다.
1980년대 중반 당시의 첨단표면처리기술인 이온도금이 일본으로부터 도입되어 시계 등에 황금색 장식에 응용되기 시작하여 이후에는 금형공구에까지 응용되었다. 1990년대에는 기존의 전해 및 무전해 도금기술의 환경폐해를 무공해화하는 청정기술이 개발·활용되고 있으며, 지속적으로 전지구적인 청정 표면처리기술의 시대를 열게 되었다.
향후 국내적으로는 21세기의 우주산업시대에 맞는 표면처리기술인 진공 용사기술의 요구가 증대될 것으로 고려되며, 국제적으로 IT-BT시대의 초소형기계인 M/NEMS의 기능 및 수명향상에 필수적인 원자단위의 초정밀미세 표면처리기술 등에 경쟁적인 기술개발이 이루어 질 것으로 사료된다. 이렇게 되는 시점에서 표면처리기술은 모든 산업분야에 첨단적 핵심적인 위치에 우뚝 서게 될 것이며 국가적인 중점기술로 여러분 앞에 다가설 것이다.
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