국내 연구진이 나노미터(㎚;10억분의 1ｍ) 굵기의 선이나 점을 기판 위에 도장처럼 여러 차례 반복해 찍어낼 수 있는 기술을 개발했다.

교육과학기술부는 이재종 한국기계연구원 박사 연구팀이 '30㎚급 다층 나노 임프린트 장비'를 만드는 데 성공했다고 29일 밝혔다.

지금까지는 반도체 회로 등 나노 단위 굵기의 선이나 점을 기판 위에 그리려면 전자빔으로 일일이 새기거나 사진 인화 원리를 이용한 '사진석판기술'을 활용했다.

그러나 전자빔 방식은 시간이 너무 오래 걸리고, 사진석판 방식은 관련 장비가 비싸다는 단점이 있다.

연구팀은 전자빔으로 일단 원하는 나노 크기 무늬(선·점)를 그린 원판(스탬프)을 만들고 이 무늬를 유연한 소재에 눌러 찍은 뒤 자외선 또는 열을 가해 완성하는 '나노 임프린트' 기술을 완성했다.

이 기술을 활용하면 하나의 웨이퍼나 필름 위에 한 층이 아니라 여러 층의 무늬도 찍어낼 수 있다.

이 박사는 "이번에 개발한 장비는 수십 ㎚급 정밀도로 넓은 면적에 나노 무늬를 새길 수 있다"며 "관련 산업계에 파급 효과가 클 것"이라고 설명했다.