연세대는 기계공학과 한재원 교수팀이 빛을 이용해 기판에 나노 패턴을 구현하는 노광(露光)기술의 하나인 `접촉식 플라즈모닉 노광기술'을 세계 최초로 개발했다고 29일 밝혔다.

연구진이 이번에 개발한 노광기술은 금속과 전자기파의 상호작용으로 발생하는 유사 입자인 `표면 플라즈몬'을 이용한 것으로, 기존의 `근접장 광 기술'보다 수백 배 빠른 기록속도를 낼 수 있어 나노반도체 분야의 차세대 원천기술로 평가된다.

기존의 근접장 광 기술은 실리콘 기판과 탐침 사이의 간격을 10㎚로 유지하기 위해 복잡한 피드백 장치를 사용하느라 기록속도가 수십㎛/s에 머물렀다.

그러나 이번에 개발된 기술은 윤활제를 이용해 기판과 탐침을 접촉시킴으로써 기록속도를 최고 10㎜/s까지 끌어올릴 수 있다고 연구진은 설명했다.

연구진은 이 기술이 유럽과 일본이 독점하고 있는 노광장비를 자체 생산해 첨단 반도체 생산 장비산업의 자립도를 크게 높일 것으로 기대하고 있다.

한 교수는 "노광기술은 반도체 생산 공정의 80%를 차지할 정도로 핵심적인 기술이지만 그동안 모두 수입에 의존해 왔다"며 "하나의 기판에 여러 개의 탐침으로 동시에 기록할 수 있는 `병렬 프로브 기술'이 합쳐지면 속도를 더 높일 수 있을뿐만 아니라 한 대에 600억원 정도 하는 노광기의 가격을 2억~3억원 정도로 크게 낮출 수 있다"고 말했다.

이 기술은 미국광학회가 발간하는 `옵틱스 익스프레스' 10월호에 소개된 바 있으며 내년 1월 과학전문지 `네이처'의 자매지인 `네이처-포토닉스' 특집호에 실릴 예정이다.