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기초·응용과학
(서울=연합뉴스) 김현준 기자
2006-05-17

첨단 반도체 건식 세정기술 세계최초 개발

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산업자원부는 서강대 유기풍 교수 연구팀이 신성이엔지, 동우화인켐 등 반도체 장비업체와 협력해 반도체 세정공정에서 에너지를 절감할 수 있는 초임계유체기술을 이용한 '패턴 웨이퍼 건식 세정기술'을 세계 최초로 개발했다고 17일 밝혔다.


이 기술은 현재 반도체 세정기술로 대부분 사용되는 습식 세정법에 비해 폐수처리 등에 들어가는 에너지를 60%(연간 1천380억원) 이상 절감할 수 있어 미래 성장동력산업으로 발전시킬 수 있는 획기적인 기술이라고 산자부는 설명했다.


반도체 생산공정 중 불순물을 제거하는 세정과정에서 대부분 사용되는 습식 세정법은 많은 에너지를 소비하고 오염물질도 많이 배출하나, 이번에 개발된 기술은 초임계상태의 이산화탄소를 이용해 에너지 사용 및 환경처리 비용을 크게 줄일 수 있는 것이 특징이다.


산자부는 그동안 실용화에 어려움을 겪어왔던 이 기술을 이용한 건식 세정장비가 반도체 생산라인에 사용되면 국제적 표준기술로 자리잡을 수 있을 것으로 기대하고 있다.


초임계 유체 건식 세정기술과 관련, 현재 국내 및 미국 특허 2편씩이 제출됐으며 국내외 반도체 장비업체들과 상업용 초임계 세정장비 개발이 협의되고 있다고 산자부는 전했다.(끝) <저작권자(c)연합뉴스. 무단전재-재배포금지.>

(서울=연합뉴스) 김현준 기자
저작권자 2006-05-17 ⓒ ScienceTimes

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